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基于激光辐照还原制备SERS基底的方法

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专利号 2019103435775 专利名称 基于激光辐照还原制备SERS基底的方法
专利类型 发明专利 国际分类 G01N21/65
申请人 安徽建筑大学 申请地址 安徽省合肥市经济技术开发区紫云路292号
发明人 唐建设;唐曦璞;项丽;吴焕乐;崔兆行;严政;王一 申请日期 2019-04-26
下证状态 未知 更新时间 2022-09-21 08:09:07
专利摘要 本发明公开了一种基于激光辐照还原制备SERS基底的方法,包括:氧化洁净平整光滑的铜片表面,诱导出表面铜氧化物的铜片支撑材料;将铜片支撑材料置于石英器皿中,加入硫化物,激光辐照,形成表面铜硫氧化物的铜片支撑材料;再将铜片支撑材料洗净,置于石英器皿中,加入银试剂,继续激光辐照,得到表面铜硫氧化物杂交银纳米颗粒的SERS基底。本发明优点在于所制备的半导体SERS基底具有良好的SERS增强性能,且制作方法简单、重复性好、表面均一;因引入了半导体材料,在控制半导体的尺寸、形貌、禁带宽度及掺杂等方面也比常规贵金属纳米颗粒的SERS基底具有一定的优势,并且利用本发明制备的SERS基底,在探索化学增强效应的规律上,也提供了新的SERS基底材料。

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